| 产品特性：研磨抛光机 | 是否进口：否 | 产地：英国 |
| 品牌：kemet | 型号：KEMET | 额定输入功率：220kw |
| 类型：立式砂带机 | 砂带尺寸：多款mm | 电源类型：插电式电源 |
| 额定电压：380v | 是否专供外贸：否 | 额定电压范围：交流单相和直流50V以上250V及以下 |
英国kemet平面研磨抛光机、kemet机械抛光机的尺寸范围从直径 200 毫米到直径 3 米不等。一般来说，较小的台式机器适用于研磨较小的部件和轻型应用，而较大的机器更适合研磨较大的部件，中等尺寸的机器通常用于涉及大量零件的生产研磨。
kemet化学机械抛光机（CMP）
KemCol 15 机器是化学机械抛光 (CMP) 和氧化铈抛光应用的理想选择。该机器基于广受欢迎的 Kemet 15 研磨抛光机，但采用不锈钢元件代替涂漆部件，以延长使用寿命并实现***抛光。它标配集成 Kemet AkuDisp 完全可编程蠕动泵系统以及陶瓷面或不锈钢调节环。Kemcol 15 系统最初是作为医疗行业的超精加工工艺开发的，但现在也用于注塑工具抛光行业、蓝宝石抛光和许多其他行业。它能够在钴铬、不锈钢、钛和许多其他材料上产生无划痕的镜面。
kemet化学机械抛光机（CMP）特殊功能：
不锈钢工作台周边抛光垫
抛光不锈钢轭架更易于清洁
不锈钢驱动板
可选配铝制升降盘系统
陶瓷表面或不锈钢调节环，可实现***抛光
AkuDisp 完全可编程蠕动泵装置为标准配置
适用于 Kemet 磁性抛光垫系统，可轻松更换抛光垫
推荐用于 KemCol 15 的配件和耗材
描述 代码
3 件套陶瓷面调理环 361522
不锈钢塑料面调节环 362757
380 毫米不锈钢支撑板（用于抛光垫） 362033
380 毫米铝制升降盘 361001
380 毫米铝制驱动板 361002
380 毫米薄金属盘（用于磁性系统） 342563
380 毫米磁盘 345773
CMP 研磨液 5 升 10 升 20 升
Col-K 600212 600238 600204
科尔-K（NC） 600199 600239 600202
CMP抛光液
推荐耗材 代码
380 毫米 CHEM-H 聚氨酯抛光垫 341865
380 毫米 PSU-M 铈化学纺织布 341011
380 毫米 MRE 短绒毛最终抛光垫 341715
什么是 kemet化学机械抛光
化学机械抛光 (CMP) 是一种在制造业中越来越流行的表面抛光方法。CMP 是将化学力和机械力组合应用于材料表面，以将其抛光至非常高的光滑度。该工艺对于难以加工或具有复杂几何形状的材料特别有用。
CMP 是一种涉及使用化学浆料、抛光垫和抛光头的工艺。化学浆料由磨料颗粒、化学添加剂和液体载体的混合物组成。抛光垫由聚氨酯等软材料制成，并附在抛光头上。该工艺从将化学浆料涂抹在材料表面上开始。然后抛光头对抛光垫施加压力，使磨料颗粒与材料表面接触。浆料中的化学添加剂与材料发生反应，使其溶解或发生化学反应，而磨料颗粒则从表面物理去除材料。化学力和机械力的结合产生了抛光作用，从而产生光滑、均匀的表面。抛光垫还有助于将抛光液均匀分布在材料表面，确保整个表面均匀抛光。
kemet化学机械抛光的应用：
CMP 通常用于制造微电子设备，例如计算机芯片和存储设备。这些设备具有复杂的几何形状，需要高水平的表面均匀性，而使用传统的抛光方法很难实现这一点。CMP 还用于制造光学元件，例如透镜和镜子。该工艺特别适用于在玻璃和其他难以加工的脆性材料上产生高质量的表面光洁度。
kemet化学机械抛光的优点：
CMP 的主要优势之一是它能够在复杂几何形状和难以加工的材料上产生高质量的表面光洁度。该工艺也非常***，可用于在大面积上实现高水平的表面均匀性。与其他表面抛光方法相比，CMP 也是一个相对较快的过程。这是因为化学浆料和抛光垫共同作用，从材料表面去除材料，从而实现更高效的抛光工艺。
